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光刻技術技術社區(qū)

光刻技術

光刻技術技術社區(qū)為您提供最新的光刻技術相關技術資訊、光刻技術的技術資料、光刻技術的電路設計方案、光刻技術的視頻資料、光刻技術的相關元器件資料以及光刻技術的技術應用。

光刻技術資訊

激光芯片為AI數(shù)據中心帶來多路復用

隨著 AI 數(shù)據中心對帶寬和功耗的需求不斷提升，網絡架構正從電氣互聯(lián)向光電互聯(lián)大規(guī)模演進。但在共封裝光學（CPO）方案中，一直缺少一個關鍵組件 —— 集成化的激光器。如今，這一空白被填補：Tower Semiconduc...

數(shù)據中心光學復用 2026-03-24

基于大規(guī)模并行GPU光柵化器加速計算光刻技術

隨著半導體制造工藝不斷向更先進的納米制程邁進，計算光刻已從芯片設計的輔助環(huán)節(jié)，發(fā)展成為先進芯片設計的核心支柱。如今，掩模合成、光刻仿真以及光學鄰近效應校正（OPC）對計算精度和數(shù)據處理吞吐量提出了前所未有的要求。而這些工...

并行 GPU 2026-03-20

Imec利用極紫外光刻技術對固態(tài)納米孔進行縮放

Imec在將固態(tài)納米孔技術從實驗室?guī)氪笠?guī)模生產方面邁出了重要一步。在IEDM 2025上，比利時研發(fā)中心展示了首次成功利用極紫外（EUV）光刻技術在晶圓級制造固態(tài)納米孔。這一發(fā)展凸顯了前沿CMOS工藝在主流芯片擴展之外...

光刻技術半導體 2025-12-19

半導體設備市場隨著光刻技術的進步而增長

2025年全球半導體資本設備市場規(guī)模為1160億美元，預計到2034年將達到2105.8億美元左右，2025年至2034年復合年增長率為6.85%。到 2024 年，北美市場規(guī)模將超過 510.2 億美元，并在預測期內以...

半導體設備 2025-07-30

Inversion Semiconductor旨在實現(xiàn)更明亮、更快速的光刻技術

Inversion Semiconductor Inc.（加利福尼亞州舊金山）是一家 2024 年的初創(chuàng)公司，計劃利用粒子加速為下一代光刻技術開發(fā)更亮、更可調的光源。該公司表示，與現(xiàn)有系統(tǒng)相比，它將能夠以高達 15 倍的...

Inversion Semiconductor 光刻技術 2025-05-28

臺積電避免使用高NA EUV光刻技術

根據臺積電北美技術研討會的報告，代工臺積電不需要使用高數(shù)值孔徑極紫外光刻工具在其 A14 （1.4nm）工藝上制造芯片。該公司在研討會上介紹了 A14 工藝，稱預計將于 2028 年投產。之前已經說過，A16 工藝將于...

臺積電高NA 2025-04-30

光刻技術專欄

193i光刻技術再次走向舞臺中心

來源：本文由半導體產業(yè)縱橫（ID：ICVIEWS）編譯自semiengineering更多的芯片將使用成熟的、不那么昂貴的設備來開發(fā)。創(chuàng)建更小特征的尖端光刻技術越來越多地被成熟工藝節(jié)點的光刻技術的改進所補充，隨著SoC和...

光刻技術 2023-06-19

解析什么是光刻技術

來源：旺材芯片制造芯片貌似很簡單，但是考慮到，光實際上并不是沿直線傳播的，尤其是當它被放到納米尺度的時候，光波動性的影響就顯現(xiàn)出來了。這里提一個知識點，瑞利判據(有興趣自己百度吧，我不細說了)，總結來說，就是，想要實現(xiàn)更...

光刻技術 2022-08-31

光刻技術資料

光刻知識教程

光刻技術光學基礎 2009-03-07 立即下載

光刻技術論壇

06-12 光刻技術常見方法

dolphin|瀏覽：1114|回復：0| dolphin 2014-06-12 10:31:32

06-12 光刻技術工藝及應用

dolphin|瀏覽：1619|回復：0| dolphin 2014-06-12 10:31:32

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